蔡司高管：中国造 EUV 光刻机，还得十五年

德国蔡司半导体部门负责人弗兰克·罗蒙德在彭博电视上说，中国在研发尖端芯片制造工具方面落后大约十五年，并称”北京需要十五年才能做出 EUV 光刻机”是一个合理的估计。

蔡司说这话是有分量的。ASML 的 EUV 光刻机里，那套光学系统就是蔡司做的——反射镜的面型精度要求做到原子量级，全球能做的只有这一家。

所以这不是一句普通的行业评论，是供应链上游对下游能力的判断。

不过”十五年”这个数字要拆开看。EUV 光刻机不是一个技术难题，是几十个难题的乘积：13.5 纳米光源的功率和稳定性、多层膜反射镜、真空环境下的双工件台同步、以及把这些东西集成到能连续量产的整机。任何一环没解决，整机就出不来。而每一环背后又是几十年的材料和工艺积累。

这类预测的历史准确率也值得提一句。过去十年里针对中国半导体产业的时间表预测，方向经常对，节奏经常错——高估的和低估的都有。上游厂商的判断往往偏保守，因为他们最清楚自己那部分有多难，但不一定清楚别人绕路的可能性。

跟 AI 的关系在于算力的天花板。国产大模型现在的训练算力主要卡在先进制程的产能上，而先进制程卡在光刻机上。这条链条上任何一环松动，下游的模型训练成本结构都会变。

十五年是不是准，没人知道。能确定的是这条路没有捷径，也没有并购能买来的部分。